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四方光電(武漢)儀器有限公司為四方光電股份有限公司(688665.SH)的全資子公司,前身為成立于2010年的湖北銳意自控系統(tǒng)有限公司,是一家專業(yè)提供氣體成分及流量測(cè)量方案的高新技術(shù)企業(yè),服務(wù)于環(huán)境監(jiān)測(cè)、過程氣體監(jiān)測(cè)、智慧計(jì)量等領(lǐng)域。 基于四方光電核心氣體傳感技術(shù)平臺(tái)的優(yōu)勢(shì),四方儀器開發(fā)了系列非分光紅外(NDIR)、紫外差分吸收光譜(UV-DOAS)、激光拉曼(LRD)、超聲波(Ultrasonic)、熱導(dǎo)(TCD)、光散射探測(cè)(LSD)等技術(shù)原理的氣體成分流量?jī)x器儀表,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于環(huán)境...
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查看更多2025年4月18日,四方光電股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱:四方光電,代碼:688665.SH)正式發(fā)布《2024年環(huán)境、社會(huì)與公司治理(ESG)報(bào)告》(以下簡(jiǎn)稱:報(bào)...
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查看更多1.腔室清潔終點(diǎn)精確控制的重要性與挑戰(zhàn)薄膜沉積(如CVD/ALD)、光刻和刻蝕是半導(dǎo)體制造的三大核心工藝,其中薄膜沉積作為基礎(chǔ)環(huán)節(jié),負(fù)責(zé)金屬、介質(zhì)及半導(dǎo)體薄膜的制備。為確保薄膜沉積工藝的穩(wěn)定性,需定期使用NF?對(duì)腔室進(jìn)行清潔,以去除積聚的聚合物材料。精確控制清潔終點(diǎn)至關(guān)重要:l清潔不足:殘留沉積物會(huì)形成顆粒污染,導(dǎo)致產(chǎn)品良率下降l過度清潔:增加NF?消耗、延長(zhǎng)設(shè)備停機(jī)時(shí)間并縮短腔室壽命。傳統(tǒng)方法依賴經(jīng)驗(yàn)時(shí)間控制清潔終點(diǎn),但最佳清潔時(shí)間受多變量影響(如沉積厚度、溫度、壓力、氣體...
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